GB/T17711-1999 GB/T 17711-1999 钇钡铜氧(123 相)超导薄膜临界温度Tc的直流电阻试验方法

标准编号:GB/T 17711-1999 时间:1999-03-01 大小:KB 浏览次数:37 下载次数:7
资料名称: GB/T17711-1999 GB/T 17711-1999 钇钡铜氧(123 相)超导薄膜临界温度Tc的直流电阻试验方法
标准类别: 国家标准
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整理时间: 1999-03-01
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实施日期: 1999-10-01(仅供参考)
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标准简介: GB/T 17711-1999 钇钡铜氧(123 相)超导薄膜临界温度Tc的直流电阻试验方法 国家标准(GB) GB/T17711-1999 本标准规定了钇钡铜氧(123相)超导薄膜临界温度Tc、超导转变宽度ΔT、零电阻温度Tco的直流电阻试验方法。本标准适用于膜厚为(100~500)nm的钇钡铜氧(123相)超导薄膜的临界温度Tc、超导转变宽度ΔT,零电阻温度Tco的测定。本标准不适用于多相和半导体型的钇钡铜氧超导薄膜上述参数的测定。

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标准名称: 钇钡铜氧(123 相)超导薄膜临界温度Tc的直流电阻试验方法
英文名称: The DC electric resistance test method for the critical temperature Tc of a YBa2Cu3O7-δ  superconducting  thin film(仅供参考)
替代情况: (仅供参考)
采标情况: ≈IEC/TC 90(仅供参考)
发布部门: 国家质量技术监督局(仅供参考)
页  数: 平装16开, 页数:7, 字数:8千字(仅供参考)
首发日期: 1999-03-13(仅供参考)
复审日期: 2004-10-14(仅供参考)
提出单位: (仅供参考)
归口单位: 全国超导标准化技术委员会(仅供参考)
主管部门: 中国科学院(仅供参考)
起草单位: 中国科学院物理研究所超导国家重点实验室(仅供参考)
相关标准: 无相关信息
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