GB/T19922-2005 GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法
标准编号:GB/T 19922-2005 时间:2005-09-19 大小:KB 浏览次数:94 下载次数:16资料名称: | GB/T19922-2005 GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法 |
标准类别: | 国家标准 | ||
语 言: | 简体中文 | ||
文件类型: | .rar | ||
整理时间: | 2005-09-19 | ||
等 级: | |||
标准状态: | (仅供参考) | ||
作废日期: | (仅供参考) | ||
实施日期: | 2006-04-01(仅供参考) | ||
授权方式: | 免费下载 | ||
下载方式: | 直接下载 | ||
浏览次数: | 94次 |
标准简介: | GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法 国家标准(GB) GB/T19922-2005 本标准规定了用电容位移传感法测定硅片表面局部平整度的方法。本标准适用于无接触、非破坏性地测量干燥、洁净的半导体硅片表面的局部平整度。适用于直径100mm及以上、厚度250μm及以上腐蚀、抛光及外延硅片。 标准压缩包解压密码:www.51zbz.com |
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标准编号: | GB/T 19922-2005 正在载入地址 | |
标准名称: | 硅片局部平整度非接触式标准测试方法 | |
英文名称: | Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning(仅供参考) | |
替代情况: | (仅供参考) | |
采标情况: | ASTM F1530-1994 MOD(仅供参考) | |
发布部门: | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国家标准化管理委员会(仅供参考) | |
页 数: | 16开, 页数:9, 字数:14千字(仅供参考) | |
首发日期: | 2005-09-19(仅供参考) | |
复审日期: | (仅供参考) | |
提出单位: | 中国有色金属工业协会(仅供参考) | |
归口单位: | 信息产业部(电子)(仅供参考) | |
主管部门: | 信息产业部(电子)(仅供参考) | |
起草单位: | 洛阳单晶硅有限责任公司(仅供参考) | |
相关标准: | 无相关信息 | |
下载次数: | 16次 |
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