YS/T666-2008 YS/T 666-2008 工业镓化学分析方法 杂质素的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
标准编号：YS/T 666-2008 时间：2008-03-12 大小：KB 浏览次数：128 下载次数：34| 资料名称： | YS/T666-2008 YS/T 666-2008 工业镓化学分析方法 杂质素的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | |
| 标准类别： | 行业标准 | ||
| 语 言： | 简体中文 | ||
| 文件类型： | .rar | ||
| 整理时间： | 2008-03-12 | ||
| 等 级： |  |
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| 标准状态： | （仅供参考） | ||
| 作废日期： | （仅供参考） | ||
| 实施日期： | 2008-09-01（仅供参考） | ||
| 授权方式： | 免费下载 | ||
| 下载方式： | 直接下载 | ||
| 浏览次数： | 128次 |
| 标准简介： | YS/T 666-2008 工业镓化学分析方法 杂质素的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 有色金属行业标准(YS) YS/T666-2008 本标准规定了工业镓中硅、钠、钾、镁、钙、铝含量的测定方法。本标准适用于工业镓［９９．９％≤ω（％）≤９９．９９５％］中硅、钠、钾、镁、钙、铝含量的测定。 标准压缩包解压密码：www.51zbz.com |
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| 标准编号： | YS/T 666-2008 正在载入地址 | |
| 标准名称： | 工业镓化学分析方法 杂质素的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | |
| 英文名称： | Chemical analysis emthods of gallium for industrial use--Determination of impurity elements--Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method（仅供参考） | |
| 替代情况： | （仅供参考） | |
| 采标情况： | （仅供参考） | |
| 发布部门： | 国家发展和改革委员会（仅供参考） | |
| 页 数： | 8页（仅供参考） | |
| 首发日期： | （仅供参考） | |
| 复审日期： | （仅供参考） | |
| 提出单位： | 全国有色金属标准化技术委员会（仅供参考） | |
| 归口单位： | 全国有色金属标准化技术委员会（仅供参考） | |
| 主管部门： | （仅供参考） | |
| 起草单位： | 中国铝业股份有限公司河南分公司;中国有色金属工业标准计量质量研究所（仅供参考） | |
| 相关标准： |
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| 下载次数： | 34次 | |
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