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GB/T14143-1993 GB/T 14143-1993 300?900 UM 硅片间隙氧含量红外吸收测量方法

标准编号:GB/T 14143-1993 时间:1993-02-06 大小:KB 浏览次数:50 下载次数:16
资料名称: GB/T14143-1993 GB/T 14143-1993 300?900 UM 硅片间隙氧含量红外吸收测量方法
标准类别: 国家标准
语  言: 简体中文
文件类型: .rar
整理时间: 1993-02-06
等  级:
标准状态: 已作废(仅供参考)
作废日期: 2006-11-01(仅供参考)
实施日期: 1993-10-01(仅供参考)
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下载方式: 直接下载
浏览次数: 50次
标准简介: GB/T 14143-1993 300?900 UM 硅片间隙氧含量红外吸收测量方法 国家标准(GB) GB/T14143-1993 本标准规定了用红外吸收法测定厚度为300~900μm的硅片间隙氧含量的方法。本标准适用于室温电阻率大于0.1Ω·cm的硅片间隙氧含量的测量。

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标准编号: GB/T 14143-1993 正在载入地址
标准名称: 300?900 UM 硅片间隙氧含量红外吸收测量方法
英文名称: 300~900μm Silicon slices-Measuring of interstitial oxygen content-Infrared absorption method(仅供参考)
替代情况: 被GB/T 1557-2006代替(仅供参考)
采标情况: ASTM F121-1983,REF(仅供参考)
发布部门: 国家技术监督局(仅供参考)
页  数: 平装16开, 页数:6, 字数:9千字(仅供参考)
首发日期: (仅供参考)
复审日期: 2004-10-14(仅供参考)
提出单位: (仅供参考)
归口单位: 中国有色金属工业协会(仅供参考)
主管部门: 中国有色金属工业协会(仅供参考)
起草单位: 机电部第四十六研究所(仅供参考)
相关标准:
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